北京中金研新材料科技有限公司（CNM）是坐落于中關(guān)村科技園區(qū)的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，由業(yè)內(nèi)龍頭企業(yè)為發(fā)起人，整合了國(guó)內(nèi)科研院校的優(yōu)勢(shì)資源，吸收國(guó)內(nèi)外先進(jìn)科學(xué)的管理經(jīng)驗(yàn)而成立。人才儲(chǔ)備豐富，資金力量雄厚，通過(guò)ISO9001:2008質(zhì)量體系及ISO14001:2004環(huán)境管理體系認(rèn)證，具有自主進(jìn)出口權(quán)。

   北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應(yīng)用技術(shù)研究開(kāi)發(fā)方面，有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。以堅(jiān)強(qiáng)的技術(shù)為基礎(chǔ)，我公司開(kāi)發(fā)了多個(gè)系列的新材料，這些產(chǎn)品牌號(hào)約百余種。已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫(yī)藥、新能源等行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產(chǎn)線，生產(chǎn)設(shè)備先進(jìn)，工藝完善。

目前，我們的客戶遍及美國(guó)．德國(guó)．日本．韓國(guó)．臺(tái)灣．香港等十幾個(gè)國(guó)家和地區(qū)，包括國(guó)內(nèi)外科研軍工，上市公司等知名企事業(yè)在內(nèi)的六百余家單位。

    北京中金研新材料科技有限公司下設(shè)鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業(yè)部，熱烈歡迎新老客戶垂詢。我公司秉承以誠(chéng)信為本，科技為本的理念，致力打造成金屬新材料行業(yè)的領(lǐng)頭羊。

主要產(chǎn)品：

磁控濺射靶材

（可為電子與半導(dǎo)體，平面顯示行業(yè)，建筑與汽車玻璃行業(yè)，薄膜太陽(yáng)能電池行業(yè)，磁存儲(chǔ)行業(yè)，工具行業(yè)，裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材）

高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶材Al，鉻靶材Cr，銅靶材Cu，鎳靶材Ni，硅靶材Si，鍺靶材Ge，鈮靶材Nb，鈦鈀材Ti，銦靶材In，銀靶材Ag，錫靶材Sn，石墨靶材C，鉭靶材Ta，鉬靶材Mo，金靶材Au，鉿靶材Hf，錳靶材Mn，鋯靶材Zr，鎂靶材Mg，鋅靶材Zn，鉛靶材Pb，銥靶材Ir，釔靶材Y，鈰靶材Ce，鑭靶材La，鐿靶材Yb，釓靶材Gd，鉑靶材Pt等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。

高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶材、AZO靶材，IGZO靶材，氧化鎂靶材MgO、氧化釔靶材Y2O3，氧化鐵靶材Fe2O3,氧化鎳靶材Ni2O3，氧化鉻靶材Cr2O3、氧化鋅靶材ZnO、硫化鋅靶材ZnS、硫化鎘靶材CdS，硫化鉬靶材MoS2，二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化鋯靶材ZrO2、五氧化二鈮靶材Nb2O5、二氧化鈦靶材TiO2,二氧化鉿靶材HfO2，二硼化鈦靶材TiB2，二硼化鋯靶材ZrB2，三氧化鎢靶材WO3，三氧化二鋁靶材Al2O3，五氧化二鉭靶材Ta2O5、氟化鎂靶材MgF2、硒化鋅靶材ZnSe、氮化鋁靶材AlN，氮化硅靶材Si3N4，氮化硼靶材BN，氮化鈦靶材TiN，碳化硅靶材SiC，鈮酸鋰靶材、鈦酸鐠靶材、鈦酸鋇靶材、鈦酸鑭靶材等高密度陶瓷濺射靶材.




備注：CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界*先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對(duì)密度大于95-99%�？梢蕴峁┌胁牡慕饘倩�處理及綁定服務(wù)。
北京中金研新材料科技有限公司（CNM）是坐落于中關(guān)村科技園區(qū)的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，由業(yè)內(nèi)龍頭企業(yè)為發(fā)起人，整合了國(guó)內(nèi)科研院校的優(yōu)勢(shì)資源，吸收國(guó)內(nèi)外先進(jìn)科學(xué)的管理經(jīng)驗(yàn)而成立。人才儲(chǔ)備豐富，資金力量雄厚，通過(guò)ISO9001:2008質(zhì)量體系及ISO14001:2004環(huán)境管理體系認(rèn)證，具有自主進(jìn)出口權(quán)。

   北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應(yīng)用技術(shù)研究開(kāi)發(fā)方面，有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。以堅(jiān)強(qiáng)的技術(shù)為基礎(chǔ)，我公司開(kāi)發(fā)了多個(gè)系列的新材料，這些產(chǎn)品牌號(hào)約百余種。已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫(yī)藥、新能源等行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產(chǎn)線，生產(chǎn)設(shè)備先進(jìn)，工藝完善。

目前，我們的客戶遍及美國(guó)．德國(guó)．日本．韓國(guó)．臺(tái)灣．香港等十幾個(gè)國(guó)家和地區(qū)，包括國(guó)內(nèi)外科研軍工，上市公司等知名企事業(yè)在內(nèi)的六百余家單位。

    北京中金研新材料科技有限公司下設(shè)鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業(yè)部，熱烈歡迎新老客戶垂詢。我公司秉承以誠(chéng)信為本，科技為本的理念，致力打造成金屬新材料行業(yè)的領(lǐng)頭羊。

磁控濺射靶材

（可為電子與半導(dǎo)體，平面顯示行業(yè)，建筑與汽車玻璃行業(yè)，薄膜太陽(yáng)能電池行業(yè)，磁存儲(chǔ)行業(yè)，工具行業(yè)，裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材）

高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶材，Al靶材，鉻靶材，Cr靶材，銅靶材，Cu靶材，鎳靶材，Ni靶材，硅靶材，S靶材，鍺靶材，Ge靶材，鈮靶材，Nb靶材，鈦鈀材，Ti靶材，銦靶材，In靶材，銀靶材，Ag靶材，錫靶材，Sn靶材，石墨靶材，C靶材，鉭靶材，Ta靶材，鉬靶材，Mo靶材，金靶材，Au靶材，鉿靶材，Hf靶材，錳靶材，Mn靶材，鋯靶材，Zr靶材，鎂靶材，Mg靶材，鋅靶材，Zn靶材，鉛靶材，Pb靶材，銥靶材，Ir靶材，釔靶材，Y靶材，鈰靶材，Ce靶材，鑭靶材，La靶材，鐿靶材，Yb靶材，釓靶材，Gd靶材，鉑靶材，Pt靶材等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。

高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶材、AZO靶材，IGZO靶材，氧化鎂靶材，MgO靶材、氧化釔靶材，Y2O3靶材，氧化鐵靶材，F(xiàn)e2O3靶材,氧化鎳靶材，Ni2O3靶材，氧化鉻靶材，Cr2O3靶材、氧化鋅靶材，ZnO靶材、硫化鋅靶材，ZnS靶材、硫化鎘靶材，CdS靶材，硫化鉬靶材，MoS2靶材，二氧化硅靶材，SiO2靶材、一氧化硅靶材，SiO靶材、二氧化鋯靶材，ZrO2靶材、五氧化二鈮靶材，Nb2O5靶材、二氧化鈦靶材，TiO2靶材,二氧化鉿靶材，HfO2靶材，二硼化鈦靶材，TiB2靶材，二硼化鋯靶材，ZrB2靶材，三氧化鎢靶材，WO3靶材，三氧化二鋁靶材，Al2O3靶材，五氧化二鉭靶材，Ta2O5靶材、氟化鎂靶材，MgF2靶材、硒化鋅靶材，ZnSe靶材、氮化鋁靶材，AlN靶材，氮化硅靶材，Si3N4靶材，氮化硼靶材，BN靶材，氮化鈦靶材，TiN靶材，碳化硅靶材，SiC靶材，鈮酸鋰靶材、鈦酸鐠靶材、鈦酸鋇靶材、鈦酸鑭靶材等高密度陶瓷濺射靶材.

備注：CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界*先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對(duì)密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。

高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶材，Ni-V靶材，鎳鉻合金靶材，Ni-Cr靶材，鈦鋁合金靶材，Ti-Al靶材，硅鋁合金靶材，Si-Al靶材，銅銦合金靶材，Cu-In靶材，銅鎵合金靶材，Cu-Ga靶材，銅銦鎵合金靶材，Cu-In –Ga靶材，銅銦鎵硒靶材，Cu-In –Ga-Se靶材，不銹鋼靶材，鋅鋁合金靶材，Zn-Al靶材，鎢鈦靶材，W-Ti靶材，鐵鈷靶材 ，F(xiàn)e-Co靶材，白銅靶材等高純合金濺射靶材。

備注：CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對(duì)密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）�？梢蕴峁┌胁牡慕饘倩�處理及綁定服務(wù)。
真空鍍膜材料
（鍍制：復(fù)合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，氣敏傳感器膜，高溫介質(zhì)膜，光學(xué)膜，激光裝置濾光片，保護(hù)膜，透明導(dǎo)電膜，變色膜，優(yōu)良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見(jiàn)光區(qū)增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光膜膜）


高品質(zhì)真空鍍膜材料（4N-5N）：

1.氧化物:一氧化硅靶材，SiO靶材,二氧化硅靶材，SiO2靶材,二氧化鈦靶材，TiO2靶材,二氧化鋯靶材，ZrO2靶材,二氧化鉿靶材，HfO2靶材,一氧化鈦靶材，TiO靶材,五氧化三鈦靶材，Ti3O5靶材，五氧化二鈮靶材，Nb2O5靶材，五氧化二鉭，Ta2O5靶材,氧化釔靶材，Y2O3靶材等高純氧化物鍍膜材料。
2.氟化物：氟化釹靶材，NbF3靶材,氟化鋇靶材，BaF2靶材，氟化鈰靶材，CeF3靶材，氟化鎂靶材，MgF2靶材，氟化鑭靶材，LaF3靶材，氟化釔靶材YF3靶材，氟化鐿靶材，YbF3靶材，氟化鉺靶材，ErF3靶材等高純氟化物。
3.其它化合物：硫化鋅靶材，ZnS靶材，硒化鋅靶材，ZnSe靶材，氮化鈦靶材，TiN靶材，碳化硅靶材，SiC靶材，鈦酸鑭靶材，LaTiO3靶材，鈦酸鋇靶材，BaTiO3靶材，鈦酸鍶靶材，SrTiO3靶材，鈦酸鐠靶材，PrTiO3靶材，硫化鎘靶材，CdS靶材等真空鍍膜材料。
4.金屬鍍膜材料：高純鋁靶材，Al靶材，高純銅靶材，Cu靶材，高純鈦靶材，Ti靶材，高純硅靶材，Si靶材，高純金靶材，Au靶材，高純銀靶材，Ag靶材，高純銦靶材，In靶材，高純鎂靶材，Mg靶材，高純鋅靶材，Zn靶材，高純鉑靶材，Pt靶材，高純鍺靶材，Ge靶材，高純鎳靶材，Ni靶材,高純金靶材，Au靶材，金鍺合金靶材，AuGe靶材，金鎳合金靶材，AuNi靶材，鎳鉻合金靶材，NiCr靶材，鈦鋁合金靶材，TiAl靶材，銅銦鎵合金靶材，CuInGa靶材，銅銦鎵硒合金靶材，CuInGaSe靶材，鋅鋁合金靶材，ZnAl靶材，鋁硅合
金靶材，AlSi靶材等金屬鍍膜材料。

備注：CNM生產(chǎn)的真空鍍膜材料均通過(guò)SGS認(rèn)證，純度高，濺點(diǎn)少，放氣量小，薄膜均勻，附著力強(qiáng)，抗腐蝕性強(qiáng)，顏色均勻等優(yōu)點(diǎn)。